Методът на електронно лъчево изпаряване е вид вакуумно изпарително покритие, което използва електронни лъчи за директно нагряване на изпарения материал при вакуумни условия, изпаряване на изпарения материал и транспортирането му до субстрата и кондензиране върху субстрата за образуване на тънък филм.В устройството за нагряване с електронен лъч нагрятото вещество се поставя в тигел с водно охлаждане, което може да избегне реакцията между материала за изпаряване и стената на тигела и да повлияе на качеството на филма.Множество тигели могат да бъдат поставени в устройството, за да се постигне едновременно или отделно изпаряване и отлагане на различни вещества.С електронно лъчево изпаряване всеки материал може да бъде изпарен.
Електронно лъчево изпарение може да изпари материали с висока точка на топене.В сравнение с общото резистентно нагряване, то има по-висока топлинна ефективност, по-висока плътност на тока на лъча и по-бърза скорост на изпарение.Филм и филм от различни оптични материали като проводящо стъкло.
Характерното за електронно лъчево изпарение е, че то няма или рядко покрива двете страни на целевата триизмерна структура и обикновено се отлага само върху целевата повърхност.Това е разликата между електронно лъчево изпаряване и разпрашване.
Електронно лъчево изпарение се използва често в областта на изследванията и индустрията на полупроводниците.Ускорената електронна енергия се използва за удар върху материалната цел, което кара материалната цел да се изпари и да се издигне.В крайна сметка се отлага върху целта.
Време на публикуване: 2 декември 2022 г